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> PARYLENE鍍膜   >  
加工流程
 
 
 
Parylene鍍膜是指一種高分子塑化聚合物,其可於真空狀態下形成氣相沉積的作用。而運用此氣相沉積的處理技術,可於產品的表面coating出均勻的薄膜,此薄膜的厚度可設定在0.1um至50um之間。
 
 
     
 

Parylene鍍膜所使用的材料Dimer,在材料室內經過150℃的氣化及650℃的裂解過程後,進入常溫下的沉積室內,在真空狀態下以氣相沉積(CVD)的方式形成薄膜(Polymer),並均勻地鍍膜在產品的表面針孔及隙縫中。

氣相沉積與金屬噴鍍不同之處,為氣相沉積不受視線阻礙,使需鍍膜的產品表面被Dimer緊密的覆蓋,進而形成無針孔、精細均勻、高品質的薄膜。其品質遠優於沉浸式或噴霧式的塗裝。

 
     
 
 
 
     
     
 
 
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